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    半導體烤箱的應用與特點
    - 2021-06-25-

            在半導體生產工藝中,光刻是集成電路圖形轉移重要的一個工藝環節,而涂膠質量直接影響到光刻的質量,涂膠工藝顯得更為必要,尤其在所刻線條比較細的時候,任何一個環節出現一點紕漏,都可能導致光刻的失敗。在涂膠工藝中絕大多數光刻膠是疏水的,而晶片表面的羥基和殘留的水分子是親水的,如果在晶片表面直接涂膠的話,會造成光刻膠和晶片的黏合性較差,甚至造成局部的間隙或氣泡。

            整個IC制造工藝過程中,光刻工序是重復次數較多的一道工藝過程。光刻常常被認為是IC制造中關鍵的步驟。光刻是將集成電路圖形從掩膜版上轉移到晶片的工藝過程,這個過程主要指涂膠、曝光和顯影。因此,烘烤作為一個重要工藝貫穿在整個光刻過程中,半導體烘箱便由此衍生。

            怡和興研發的半導體烤箱,可執行晶圓級預燒和磁性退火等前道半導體功能, 以及組裝/晶圓級包封功能(例如黏晶固化、穩定性和預燒測試以及熱沖擊),以滿足其退火、干燥及熱分解需求,還滿足在大規模半導體封裝和組裝生產中對潔凈工藝、低氧化、粘合劑和聚合物的高效固化等要求。

    半導體烤箱具備以下特點:

    1. SUS304 1.5mm不銹鋼板,全滿焊工藝;

    2. 箱內風道內設有潔凈空氣入口并裝有高效過濾器??墒褂脫Q氣和不換氣模式,可以使箱內保證微正壓,以保證污染物不能進入內箱;

    3. 高效過濾器HEPA過濾網構造潔凈室,可以對箱體內氣體進行單向過濾和循環過濾。根據使用要求,可以滿足潔凈級別ISO Class 5(國標100級),ISO Class 6(國標1000級),ISO Class 7(國標10000級)等各種等級的需求;

    4. 配置自動充氮氣裝置,與自動開關風門進行充氮烘烤;

    5. 全新開發觸摸屏操作系統,帶高精度PID主控儀,控溫精度為±0.1℃,自動恒溫??梢员4媾浞?,查看溫度曲線,導出升溫數據等;


       

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